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集成电路应用杂志
Applications of IC
杂志介绍：<p>集成电路应用是一本由上海贝岭股份有限公司主办的电力期刊，1984年创刊，月刊。该刊严控学术质量，努力吸引高质量论文，为该行业领域发展建设与科研成果传播做贡献，欢迎大家踊跃投稿或订阅。本刊主要栏目有：产业评论、市场分析、设计与研究、工艺与制造、创新应用、新产品、区域动态、读者信箱。</p>...
收录信息：
CSSCI期刊
北大期刊
CSCD期刊
文摘杂志
医学文摘
集成电路应用杂志杂志简介
<p>集成电路应用是一本由上海贝岭股份有限公司主办的电力期刊，1984年创刊，月刊。该刊严控学术质量，努力吸引高质量论文，为该行业领域发展建设与科研成果传播做贡献，欢迎大家踊跃投稿或订阅。本刊主要栏目有：产业评论、市场分析、设计与研究、工艺与制造、创新应用、新产品、区域动态、读者信箱。</p>
主要栏目：暂无
读者对象：相关领域研究人员、高校师生、从业人员
集成电路应用杂志投稿指南
集成电路应用投稿须知
预计审稿时间：1个月内
(一)应尽量简洁、准确，一般不超过20字。
(二)参考文献附于正文之后，所列文献必须是文中提及的，与正文相对应的。
(三)文章关键要素，需有英文摘要。
(四)来稿须为作者本人原创，且未公开发表，稿件内容要求文字精炼、层次清晰、观点鲜明。来稿确保不涉及保密信息、署名无争议，因文字、引注、图片等引发的观点或版权问题，皆由作者本人承担。
(五)借喻词一般需用“”号；课题名用“”号，不用“《》”。
集成电路应用杂志收录历史
中国优秀期刊遴选数据库
中国期刊全文数据库（CJFD）
集成电路应用杂志发表范例
28 nm锗硅工艺极微小颗粒缺陷监控方法与改善措施研究
LDD后热处理工艺对28 nm PMOSFET短沟道效应的影响
40 nm CMOS工艺平台多叉指NMOS器件设计与截止频率提升
一种通过优化热处理条件提升CIS器件性能的方法
金属硅化物阻挡层刻蚀对一次性编程单元数据保持性能的影响
射频器件在片测试结构与去嵌入方法
多腔体密封集成电路的颗粒碰撞噪声检测PIND研究
基于图像分析的CD-SEM显微视觉清晰度检测技术研究
一种应用于半导体制造业的支持向量机SVM检测方法
CTP触控模组表面贴装SMT工艺研究
集成电路应用杂志数据统计
被引次数统计（2014-2023）
影响因子统计（2014-2023）
主要参考文献期刊分析
主要引证文献期刊分析
热门问题
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投稿流程是什么？投稿流程：注册账号 → 在线投稿 → 初审（3-5 天）→ 外审（15-30 天）→ 修改 → 终审 → 录用 → 缴费 → 排版 → 发表。整个过程约 1-2 个月。
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审稿周期多长？正常审稿周期为 1-2 个月，包括初审 3-5 天、外审 15-30 天、终审 5-10 天。如需加急，可联系客服办理加急审稿，最快 2 周出结果。
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可以加急吗？可以加急，具体咨询站内编辑。
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如何查询录用情况？登录投稿系统，在"我的稿件"中查看稿件状态。录用后会发送录用通知到注册邮箱，也可在系统中下载录用通知书。
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查重率要求是多少？一般要求查重率低于 15%，综述类文章可放宽至 20%。建议使用知网、维普或万方等权威查重系统。
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基金项目论文有优先吗？是的，有基金支持的论文优先审稿、优先发表。请在投稿时注明基金项目名称和编号，并提供相关证明材料。
